《电子工业专用设备》经新闻出版总署批准,自1971年创刊,国内刊号为62-1077/TN,本刊积极探索、勇于创新,栏目设置及内容节奏经过编排与改进,受到越来越多的读者喜爱。
《电子工业专用设备》为《中国科技论文统计》和《中国电子科技文摘》用刊,同时是《中国学术期刊(光盘版)》、中国期刊网、万方 资源系统(ChinaInfo)数字化期刊网及北极星网站全文收录期刊。
杂志简介:《电子工业专用设备》杂志经新闻出版总署批准,自1971年创刊,国内刊号为62-1077/TN,是一本综合性较强的电子期刊。该刊是一份双月刊,致力于发表电子领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目:先进封装技术与设备、半导体制造工艺与设备、电子专用设备研究、专用设备维护与保养
《电子工业专用设备》经新闻出版总署批准,自1971年创刊,国内刊号为62-1077/TN,本刊积极探索、勇于创新,栏目设置及内容节奏经过编排与改进,受到越来越多的读者喜爱。
《电子工业专用设备》为《中国科技论文统计》和《中国电子科技文摘》用刊,同时是《中国学术期刊(光盘版)》、中国期刊网、万方 资源系统(ChinaInfo)数字化期刊网及北极星网站全文收录期刊。
《电子工业专用设备》杂志学者发表主要的研究主题主要有以下内容:
(一)光学光刻;集成电路;光刻;硅;CMP
(二)表面贴装技术;SMT;贴片机;波峰焊;SMT生产
(三)半导体产业;半导体;半导体设备;铜互连;应变硅技术
(四)CMP;化学机械抛光;化学机械平坦化;抛光液;半导体材料
(五)半导体器件;刻蚀;MEMS;沟道;焦平面阵列
(六)机器人;冗余度机器人;料器;球磨机;回转误差
(七)CMP;化学机械平坦化;化学机械抛光;抛光液;抛光垫
(八)X射线光刻;沟道;半导体器件;版图;衬底
(九)单晶片;锗;抛光片;晶片;表面粗糙度
(十)晶圆;直线电机;激光加工;伺服控制;ETHERCAT
1、文题:要求简洁、明了,准确反映论文的内容,一般不超过20个字。
2、应具有科学性、实用性、逻辑性,论点明确,资料可靠,文字精炼,层次清楚,数据准确,必要时应做统计学处理。
3、摘要文字量50~300字。试验研究和专题研究类论文,应写成报道性摘要。
4、作者简介,包括出生年、性别、职称或学位、研究方向。置于篇首页地脚。
5、在参考文献表中:作者不超过3个的姓名都写,超过3个的,余者写“,等”或“,etal”。
立即指数:立即指数 (Immediacy Index)是指用某一年中发表的文章在当年被引用次数除以同年发表文章的总数得到的指数;该指数用来评价哪些科技期刊发表了大量热点文章,进而能够衡量该期刊中发表的研究成果是否紧跟研究前沿的步伐。
引证文献:又称来源文献,是指引用了某篇文章的文献,是对本文研究工作的继续、应用、发展或评价。这种引用关系表明了研究的去向,经过验证,引证文献数等于该文献的被引次数。引证文献是学术论著撰写中不可或缺的组成部分,也是衡量学术著述影响大小的重要因素。
若用户需要出版服务,请联系出版商,地址:北京市朝阳区安贞西里26号浙江大厦913室,邮编:100029。