Plasma Chemistry And Plasma Processing-影响因子2.6-首页

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Plasma Chemistry And Plasma Processing 杂志简介

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》重点专注发布工程技术-工程：化工领域的新研究，旨在促进和传播该领域相关的新技术和新知识。鼓励该领域研究者详细地发表他们的高质量实验研究和理论结果。该杂志创刊至今，在工程技术-工程：化工领域，有较高影响力，对来稿文章质量要求较高，稿件投稿过审难度较大。欢迎广大同领域研究者投稿该杂志。

Plasma Chemistry And Plasma Processing 杂志中科院分区

中科院SCI分区数据

中科院SCI期刊分区（2023年12月升级版）

大类学科	分区	小类学科	分区	Top期刊	综述期刊
物理与天体物理	3区	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流体与等离子体	3区 3区 3区	否	否

中科院SCI期刊分区（2022年12月升级版）

大类学科	分区	小类学科	分区	Top期刊	综述期刊
工程技术	3区	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流体与等离子体 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：应用	2区 3区 3区	否	否

中科院SCI期刊分区（2021年12月旧的升级版）

大类学科	分区	小类学科	分区	Top期刊	综述期刊
工程技术	3区	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流体与等离子体	3区 3区 3区	否	否

中科院SCI期刊分区（2021年12月基础版）

大类学科	分区	小类学科	分区	Top期刊	综述期刊
工程技术	3区	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流体与等离子体	4区 3区 2区	否	否

中科院SCI期刊分区（2021年12月升级版）

大类学科	分区	小类学科	分区	Top期刊	综述期刊
工程技术	3区	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流体与等离子体	3区 3区 3区	否	否

中科院SCI期刊分区（2020年12月旧的升级版）

大类学科	分区	小类学科	分区	Top期刊	综述期刊
工程技术	3区	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流体与等离子体	3区 3区 3区	否	否

中科院分区趋势图

影响因子趋势图

中科院JCR分区：中科院JCR期刊分区（又称分区表、分区数据）是中国科学院文献情报中心世界科学前沿分析中心的科学研究成果，是衡量学术期刊影响力的一个重要指标，一般而言，发表在1区和2区的SCI论文，通常被认为是该学科领域的比较重要的成果。

影响因子：是汤森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引证报告(Journal Citation Reports,JCR)中的一项数据，现已成为国际上通用的期刊评价指标，不仅是一种测度期刊有用性和显示度的指标，而且也是测度期刊的学术水平，乃至论文质量的重要指标。

Plasma Chemistry And Plasma Processing 杂志JCR分区

Web of Science 数据库（2023-2024年最新版）

按JIF指标学科分区	收录子集	分区	排名	百分位
学科：ENGINEERING, CHEMICAL	SCIE	Q3	91 / 170	46.8%
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	81 / 179	55%
学科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	SCIE	Q2	12 / 40	71.3%

按JCI指标学科分区	收录子集	分区	排名	百分位
学科：ENGINEERING, CHEMICAL	SCIE	Q2	55 / 171	68.13%
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	69 / 179	61.73%
学科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	SCIE	Q2	17 / 40	58.75%

Plasma Chemistry And Plasma Processing CiteScore 评价数据（2024年最新版）

CiteScore：5.9
SJR：0.48
SNIP：0.912

CiteScore 排名

学科类别	分区	排名	百分位
大类：Physics and Astronomy 小类：Condensed Matter Physics	Q1	108 / 434	75%
大类：Physics and Astronomy 小类：Surfaces, Coatings and Films	Q2	34 / 132	74%
大类：Physics and Astronomy 小类：General Chemical Engineering	Q2	79 / 273	71%
大类：Physics and Astronomy 小类：General Chemistry	Q2	119 / 408	70%

CiteScore趋势图

年发文量趋势图

CiteScore：是由Elsevier2016年发布的一个评价学术期刊质量的指标，该指标是指期刊发表的单篇文章平均被引用次数。CiteScore和影响因子的作用是一样的，都是可以体现期刊质量的重要指标，给选刊的作者了解期刊水平提供帮助。

Plasma Chemistry And Plasma Processing 杂志发文统计

文章名称引用次数
Effect of Cold Atmospheric Pressure Plasma on Maize Seeds: Enhancement of Seedlings Growth and Surface Microorganisms Inactivation23
Cold Atmospheric Pressure Plasma Can Induce Adaptive Response in Pea Seeds14
Inactivation of Shewanella putrefaciens by Plasma Activated Water13
Seed Priming with Non-thermal Plasma Modified Plant Reactions to Selenium or Zinc Oxide Nanoparticles: Cold Plasma as a Novel Emerging Tool for Plant Science13
Stimulation of the Germination and Early Growth of Tomato Seeds by Non-thermal Plasma12
Evaluation of Oxidative Species in Gaseous and Liquid Phase Generated by Mini-Gliding Arc Discharge12
Non-thermal Plasma Induced Expression of Heat Shock Factor A4A and Improved Wheat (Triticum aestivum L.) Growth and Resistance Against Salt Stress11
Effect of the Magnetic Field on the Magnetically Stabilized Gliding Arc Discharge and Its Application in the Preparation of Carbon Black Nanoparticles9
On the Possibilities of Straightforward Characterization of Plasma Activated Water8
Plasma Activated Organic Fertilizer8
国家/地区发文量
CHINA MAINLAND70
Russia37
USA29
France26
GERMANY (FED REP GER)21
Czech Republic15
Iran14
India12
Japan12
Poland11
机构发文发文量
RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES24
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)21
CZECH ACADEMY OF SCIENCES10
XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY10
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES9
DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY9
COMENIUS UNIVERSITY BRATISLAVA7
IVANOVO STATE UNIVERSITY OF CHEMISTRY & TECHNOLOGY7
STATE UNIVERSITY SYSTEM OF FLORIDA7
KOREA UNIVERSITY6

Plasma Chemistry And Plasma Processing 杂志社通讯方式

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》杂志通讯方式为：SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013。详细征稿细则请查阅杂志社征稿要求。本站可提供SCI投稿辅导服务，SCI检索，确保稿件信息安全保密，合乎学术规范，详情请咨询客服。