Journal Of Vacuum Science & Technology A

Journal Of Vacuum Science & Technology A SCIE

真空科学与技术学报杂志

中科院分区:3区 JCR分区:Q3 预计审稿周期: 一般,3-6周

《Journal Of Vacuum Science & Technology A》是一本由AVS Science and Technology Society出版商出版的材料科学国际刊物,国际简称为J VAC SCI TECHNOL A,中文名称真空科学与技术学报。该刊创刊于1983年,出版周期为Bimonthly。 《Journal Of Vacuum Science & Technology A》2023年影响因子为2.4,被收录于国际知名权威数据库SCIE。

ISSN:0734-2101
研究方向:材料科学:膜-工程技术
是否预警:否
E-ISSN:1520-8559
出版地区:UNITED STATES
Gold OA文章占比:27.03%
语言:English
是否OA:未开放
OA被引用占比:0.2168...
出版商:AVS Science and Technology Society
出版周期:Bimonthly
影响因子:2.4
创刊时间:1983
年发文量:333
杂志简介 中科院分区 JCR分区 CiteScore 发文统计 通讯方式 相关杂志 期刊导航

Journal Of Vacuum Science & Technology A 杂志简介

《Journal Of Vacuum Science & Technology A》重点专注发布材料科学:膜-工程技术领域的新研究,旨在促进和传播该领域相关的新技术和新知识。鼓励该领域研究者详细地发表他们的高质量实验研究和理论结果。该杂志创刊至今,在材料科学:膜-工程技术领域,有较高影响力,对来稿文章质量要求较高,稿件投稿过审难度较大。欢迎广大同领域研究者投稿该杂志。

Journal Of Vacuum Science & Technology A 杂志中科院分区

中科院SCI分区数据
中科院SCI期刊分区(2023年12月升级版)
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
材料科学 3区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 3区 3区
中科院SCI期刊分区(2022年12月升级版)
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
材料科学 2区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 3区 3区
中科院SCI期刊分区(2021年12月旧的升级版)
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
材料科学 3区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 3区 3区
中科院SCI期刊分区(2021年12月基础版)
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 4区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 4区 4区
中科院SCI期刊分区(2021年12月升级版)
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
材料科学 3区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 3区 3区
中科院SCI期刊分区(2020年12月旧的升级版)
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
材料科学 2区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 2区 3区
中科院分区趋势图
影响因子趋势图

中科院JCR分区:中科院JCR期刊分区(又称分区表、分区数据)是中国科学院文献情报中心世界科学前沿分析中心的科学研究成果,是衡量学术期刊影响力的一个重要指标,一般而言,发表在1区和2区的SCI论文,通常被认为是该学科领域的比较重要的成果。

影响因子:是汤森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引证报告(Journal Citation Reports,JCR)中的一项数据,现已成为国际上通用的期刊评价指标,不仅是一种测度期刊有用性和显示度的指标,而且也是测度期刊的学术水平,乃至论文质量的重要指标。

Journal Of Vacuum Science & Technology A 杂志JCR分区

Web of Science 数据库(2023-2024年最新版)
按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 13 / 23

45.7%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 96 / 179

46.6%

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 12 / 23

50%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 88 / 179

51.12%

Journal Of Vacuum Science & Technology A CiteScore 评价数据(2024年最新版)

  • CiteScore:5.1
  • SJR:0.569
  • SNIP:0.957

CiteScore 排名

学科类别 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics Q2 135 / 434

69%

大类:Physics and Astronomy 小类:Surfaces and Interfaces Q2 19 / 57

67%

大类:Physics and Astronomy 小类:Surfaces, Coatings and Films Q2 45 / 132

66%

CiteScore趋势图
年发文量趋势图

CiteScore:是由Elsevier2016年发布的一个评价学术期刊质量的指标,该指标是指期刊发表的单篇文章平均被引用次数。CiteScore和影响因子的作用是一样的,都是可以体现期刊质量的重要指标,给选刊的作者了解期刊水平提供帮助。

Journal Of Vacuum Science & Technology A 杂志发文统计

文章名称引用次数

  • Review Article: Stress in thin films and coatings: Current status, challenges, and prospects72
  • Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition26
  • Practical guides for x-ray photoelectron spectroscopy: First steps in planning, conducting, and reporting XPS measurements23
  • Functional model for analysis of ALD nucleation and quantification of area-selective deposition19
  • Review Article: Catalysts design and synthesis via selective atomic layer deposition16
  • Paradigm shift in thin-film growth by magnetron sputtering: From gas-ion to metal-ion irradiation of the growing film14
  • Review Article: Atomic layer deposition for oxide semiconductor thin film transistors: Advances in research and development14
  • Atomic layer deposition of silicon-based dielectrics for semiconductor manufacturing: Current status and future outlook13
  • Review Article: Crystal alignment for high performance organic electronics devices12
  • Vapor-deposited octadecanethiol masking layer on copper to enable area selective Hf3N4 atomic layer deposition on dielectrics studied by in situ spectroscopic ellipsometry11

国家/地区发文量

  • USA368
  • Japan77
  • GERMANY (FED REP GER)61
  • South Korea56
  • France44
  • Sweden33
  • CHINA MAINLAND31
  • England29
  • Finland26
  • Netherlands26

机构发文发文量

  • UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY (DOE)58
  • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)30
  • UNITED STATES DEPARTMENT OF DEFENSE26
  • LINKOPING UNIVERSITY25
  • UNIVERSITY OF ILLINOIS SYSTEM24
  • UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM20
  • CEA18
  • UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM17
  • UNIVERSITY SYSTEM OF MARYLAND17
  • LAM RESEARCH CORPORATION16

Journal Of Vacuum Science & Technology A 杂志社通讯方式

《Journal Of Vacuum Science & Technology A》杂志通讯方式为:A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502。详细征稿细则请查阅杂志社征稿要求。本站可提供SCI投稿辅导服务,SCI检索,确保稿件信息安全保密,合乎学术规范,详情请咨询客服。

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