International Journal Of Rf Technologies-research And Applications

International Journal Of Rf Technologies-research And Applications SCIE

国际射频技术研究与应用杂志杂志

JCR分区:Q3 预计审稿周期:

《International Journal Of Rf Technologies-research And Applications》是一本由IOS Press出版商出版的国际刊物,国际简称为INT J RF TECHNOL-RES,中文名称国际射频技术研究与应用杂志。出版周期为。 《International Journal Of Rf Technologies-research And Applications》2023年影响因子为1.6,被收录于国际知名权威数据库SCIE。

ISSN:1754-5730
研究方向:COMPUTER SCIENCE, INFORMATION SYSTEMS
是否预警:否
E-ISSN:1754-5749
Gold OA文章占比:0.00%
语言:English
是否OA:未开放
出版商:IOS Press
影响因子:1.6
年发文量:8
杂志简介 JCR分区 CiteScore

International Journal Of Rf Technologies-research And Applications 杂志简介

《International Journal Of Rf Technologies-research And Applications》重点专注发布COMPUTER SCIENCE, INFORMATION SYSTEMS领域的新研究,旨在促进和传播该领域相关的新技术和新知识。鼓励该领域研究者详细地发表他们的高质量实验研究和理论结果。

International Journal Of Rf Technologies-research And Applications 杂志JCR分区

Web of Science 数据库(2023-2024年最新版)
按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:COMPUTER SCIENCE, INFORMATION SYSTEMS ESCI Q3 168 / 249

32.7%

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:COMPUTER SCIENCE, INFORMATION SYSTEMS ESCI Q4 246 / 251

2.19%

International Journal Of Rf Technologies-research And Applications CiteScore 评价数据(2024年最新版)

  • CiteScore:1.1
  • SJR:0.143
  • SNIP:0.084

CiteScore 排名

学科类别 分区 排名 百分位
大类:Engineering 小类:Industrial and Manufacturing Engineering Q3 275 / 384

28%

大类:Engineering 小类:Electrical and Electronic Engineering Q4 631 / 797

20%

大类:Engineering 小类:Management of Technology and Innovation Q4 239 / 289

17%

大类:Engineering 小类:Management Information Systems Q4 112 / 131

14%

CiteScore趋势图
年发文量趋势图

CiteScore:是由Elsevier2016年发布的一个评价学术期刊质量的指标,该指标是指期刊发表的单篇文章平均被引用次数。CiteScore和影响因子的作用是一样的,都是可以体现期刊质量的重要指标,给选刊的作者了解期刊水平提供帮助。

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