International Journal Of Applied Pattern Recognition SCIE

国际应用模式识别杂志杂志

JCR分区：Q4 预计审稿周期：

《International Journal Of Applied Pattern Recognition》是一本国际刊物，国际简称为INT J APPL PATTERN R，中文名称国际应用模式识别杂志。出版周期为。《International Journal Of Applied Pattern Recognition》2023年影响因子为1.1，被收录于国际知名权威数据库SCIE。

ISSN：2049-887X

研究方向：COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE

是否预警：否

E-ISSN：2049-8888

Gold OA文章占比：0.00%

语言：English

是否OA：未开放

影响因子：1.1

年发文量：4

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杂志简介 JCR分区

International Journal Of Applied Pattern Recognition 杂志简介

《International Journal Of Applied Pattern Recognition》重点专注发布COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE领域的新研究，旨在促进和传播该领域相关的新技术和新知识。鼓励该领域研究者详细地发表他们的高质量实验研究和理论结果。

International Journal Of Applied Pattern Recognition 杂志JCR分区

Web of Science 数据库（2023-2024年最新版）

按JIF指标学科分区	收录子集	分区	排名	百分位
学科：COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE	ESCI	Q4	167 / 197	15.5%

按JCI指标学科分区	收录子集	分区	排名	百分位
学科：COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE	ESCI	Q4	179 / 198	9.85%

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